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    《数字印刷》 2020年02期
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    铕高分子荧光材料的合成及性能研究

    孟婕  解润  王丹丹  郝晓秀  
    【摘要】:本研究制备了铕高分子荧光材料,并研究温度、引发剂含量、反应时间、单体配比等因素对铕高分子荧光材料荧光强度的影响。通过紫外可见光谱、荧光光谱等分析手段,对铕高分子荧光材料相关性能进行了研究。结果表明最佳反应条件是反应温度70℃,引发剂AIBN含量1%,配合物单体与甲基丙烯酸甲酯(MMA)的摩尔比1∶40,反应时间8h;同时在铕高分子荧光材料中只要引入少量的铕配合物单体(铕配合物∶PMMA摩尔配比1∶40),高分子荧光材料就可以达到或超过配合物的相对荧光强度,这也说明高分子荧光材料中配合物单体键合到聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)大分子链上,稀土离子发光单元分布均匀,可进一步提高高分子荧光材料的相对荧光强度。

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